薄膜太陽能電池行業，磁存儲行業，工具行業，裝飾行業提供高品質靶材）

高純單質金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶Al，鉻靶Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，硅靶Si，鍺靶Ge，

鈮靶Nb，鈦鈀Ti，銦靶In，銀靶Ag，錫靶Sn，石墨靶C，鉭靶Ta，鉬靶Mo，金靶Au，

鉿靶Hf，錳靶Mn，鋯靶Zr，鎂靶Mg，鋅靶Zn，鉛靶Pb，銥靶Ir，釔靶Y，鈰靶Ce，

鑭靶La，鐿靶Yb，釓靶Gd，鉑靶Pt等高純單質金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3，

氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3，氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS，

硫化鉬靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、

二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2，二硼化鈦靶TiB2，二硼化鋯靶ZrB2，三氧化鎢靶WO3，

三氧化二鋁靶Al2O3，五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN，

氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化鈦靶TiN，碳化硅靶SiC，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、

鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.

  備注：CNM生產的陶瓷靶材采用世界最先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。

高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦 W-Ti，鐵鈷 Fe-Co，白銅靶等高純合金濺射靶材。

  備注：CNM生產的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。

真空鍍膜材料

（鍍制：復合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質膜，光學膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）

高品質真空鍍膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,

 一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3

  等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物：氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，

  氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，

  鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，

  高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，

  金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，

  銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。

  備注：CNM生產的真空鍍膜材料均通過SGS認證，純度高，濺點少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強，抗腐蝕性強，顏色均勻   等優點。

高純材料

（產品廣泛應用于半導體和電子行業的基礎材料，光學，航天，原子能工業，電子，光電子，太陽能電池，裝飾，合金添加劑等各類科學研究和工業生產領域）

1.高純金屬(純度：3N-8N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

高純鋁,高純銅，高純鉻，高純鈷，高純金，高純銀，高純鉑，高純鉿，高純鎢，高純鉬，

高純硅，高純鍺，高純錳，高純鎂，高純鈮，高純錫，高純鋅，高純釩，高純鐵，高純鈦

，高純鋯，高純碲，高純鎳，高純鉭，高純鎵，高純銦，高純鈀，高純錸，高純鑭,高純鐠,

高純鈰，高純釓,高純銥，高純銠，高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩，高純銪，高純鈥，

高純鋱等高純金屬材料。

2.高純氧化物(純度：3N-6N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

     一氧化硅，SiO,二氧化硅，SiO2，二氧化鉿，HfO2,二氧化鋯，ZrO2,一氧化鈦,TiO，二氧化鈦，

TiO2,三氧化二鈦，Ti2O3,五氧化三鈦，Ti3O5，五氧化二鉭，Ta2O5，五氧化二鈮，Nb2O5，

三氧化二鋁，Al2O3,三氧化二鈧，Sc2O3，三氧化二銦，In2O3,二氧化鈰，CeO2，氧化鎂，MgO,

三氧化鎢，WO3，氧化銅,CuO,氧化鐵,Fe2O3,氧化釤，Sm2O3，氧化釹，Nd2O3，氧化鑭，La2O3，

氧化釔，Y2O3，氧化鐿，Yb2O3，氧化釓，Gd2O3,氧化镥，Lu2O3,氧化鋱，Tb2O3，氧化鈥，Ho2O3，

氧化銪，Eu2O3，氧化銩，Tm2O3,氧化鉺，Er2O3，氧化鉍，Bi2O3，氧化鐠，Pr6O11，氧化銻，Sb2O3，氧化釩，V2O5，氧化鎳，NiO,氧化鋅，ZnO,氧化鉻，Cr2O3，氧化鍶，SrO等高純氧化物

3.高純氟化物(純度：3N-6N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

    氟化鏑DyF3，氟化釹NdF3，氟化鉀KF，氟化鍶SrF2，氟化鈉NaF，氟化鋇BaF2，氟化鉛PbF2，氟化鋁AlF3，氟化鈰CeF4，氟化鎂MgF2，氟化釤SmF3，氟化釹F3Nd，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化軋，氟化镥LuF3，氟化鋱TbF3，氟化銩TmF3，氟化鉺，氟化鐠等高純氟化物

4.其他化合物（(純度：3N-6N,規格：顆粒，片狀，絲狀，塊狀，粉末狀，靶材)：

    碳化鋯，ZrC,碳化鉿，HfC,碳化硅，SiC,碳化硼，B4C碳化鎢WC，碳化鈦,TiC,等碳化物。

硫化銅，CuS,硫化鎘，GdS,硫化鋅，ZnS,硫化鉬，MoS,硫化錫SnS,等硫化物.氮化鈦，TiN,氮化鋁，AlN,氮化硅，Si3N4，氮化硼BC,等氮化物.二硼化鋯，ZrB2二硼化鈦，TiB2，二硼化鉿，HfB2，氯氧化鋯，氯氧化鉿，四氯化鋯，四氯化鉿，硫酸氧鈦，鈦酸鋇，鈦酸鍶，鈦酸鑭，鈦酸鐠，二硅化鉬，硒化鋅，AZO，IGZO，ITO等化合物.

備注：CNM高純材料采用化學精煉法，電解精煉法，電子書熔煉，區間熔煉，萃取精煉法，控制晶粒的生長形態的偏析法提純工藝，濕法提純，化學提純。材料：純度高，性能穩定，延展性好，耐腐蝕性能優良，放射性元素含量低，強度高，具有良好的加工性能。